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1.4nm制程! 纳米压印技术突破!
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科技
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拓荒牛
2025-12-17
![](https://img2.tuohuangzu.com/uninf/images/202512/2025121714380523522.png"><p>近日，日本印刷株式会社（dnp）宣布，成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（nil）光刻模板，可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化，可以满足智能手机、数据中心以及nand闪存等设备中使用的尖端逻辑半导体的微型化需求。该产品将在)
