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打破垄断！国产10nm级光刻机实现交付！
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科技
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企业第二办公区-企业CBD
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拓荒牛
2025-10-04
![](https://img2.tuohuangzu.com/uninf/images/202510/2025100404341555040.png"></p><p><span><span>该设备攻克了步进硬板非真空贴合、喷胶与薄胶压印、压印胶残余层控制等关键技术难题，实现了线宽小于10nm的纳米压印光刻工艺，在核心指标上超越了日本佳能同类产品。</span></span></p><p><span><span>此次交付也标志着我国在“后摩尔时代”新型芯片制造装备领域实现自主突破，为国产半导体产业链开辟了又一差异化技术路径。</span></span></p><p><strong>三项“突破性”指标</strong></p><p><span><span><span>纳米压印光刻</span>（nil）是一种新型微纳加工技术，其原理不同于依赖光或电子辐射的传统光刻技术，而是通过物理模具压印的方式将图案转移到光刻胶上，类似“纳米级印章”。</span></span></p><p><span><span>这种方法不受光学衍射极限的限制，理论上可突破3nm的图形尺寸限制，同时具备能耗低、成本低的显著优势——据佳能数据显示，其耗电量仅为euv光刻技术的10%，设备成本可降至40%。</span></span></p><p><span><span>从技术参数简单来看，pl-sr系列实现了三项突破性指标：平均残余层厚度＜10nm、残余层变化＜2nm、压印结构深宽比＞7：1。</span></span></p><p><img)
